Article Dans Une Revue
Thin Solid Films
Année : 2001
Jean-Pierre Chatelon : Connectez-vous pour contacter le contributeur
https://ujm.hal.science/ujm-00356485
Soumis le : mardi 27 janvier 2009-15:45:56
Dernière modification le : samedi 18 mars 2023-03:51:48
Dates et versions
Identifiants
- HAL Id : ujm-00356485 , version 1
Citer
Christian Gautier, G. Moulard, Jean-Pierre Chatelon, G. Motyl. Influence of substrate bias voltage on the in situ stress measured by an improved optical cantilever technique of sputtered chromium films. Thin Solid Films, 2001, 384, pp.102-108. ⟨ujm-00356485⟩
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